2月16日(金)：ライセンス深堀り勉強会(第18回)のご案内
￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣￣
こんにちは。
真冬の寒さになり、インフルエンザも広範囲に流行っています。
移らない、移さないように心がけましょう。
さて、オープンソースライセンス研究所では、ライセンスの理解を深めるために、
「ライセンス深堀り勉強会」を開催しています。
勉強会では、ライセンスの日本語訳を音読し、意味の分からない部分をお互いに
質問したり、一覧表にまとめたりして理解を深めています。分かっていたつもり
だったのに、他の人の質問を聞いて、自分が理解できていなかったことに気付かされる
ことも多いです。
前回は、Artistic License v1.0について、3種類のライセンス原文が存在することが
判明したため、あらためて読み合わせを行いました。
次回は、ライセンス一覧にまとめた後、Artistic License v2.0の読み合わせを
行います。
これからライセンスについて勉強していきたいという初心者の方、あるいは
以前に勉強したけど、もう一度、復習したいという方、初めて参加される方も
大歓迎ですので、遠慮なくご参加ください。
■参加料：無料
■開催日時：2018年2月16日（金）16：00～18：00
■開催場所：東京都大田区新蒲田1-17-25 富士通ソリューションスクエア (R208会議室)
http://www.fujitsu.com/jp/about/corporate/facilities/solutionsquare/index.html
(広い階段を上がった２階が受付です)
※セキュリティの関係上、開始５分前までに受付に集合願います。
全員が集まった時点で、会議室へ移動します。
参加申し込み後、欠席される場合は、ご連絡いただけると幸いです。
■申し込み：以下のサイトからお願い致します。
https://www.osll.jp/news/study-20180216/
※配布資料の関係上、参加人数を把握するため、前日の2月15日(木）までに
お申し込みをお願い致します。
以上、どうぞよろしくお願いいたします。
検索
