5月25日(金):ライセンス深堀り勉強会(第21回)のご案内
 ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄
こんにちは。
暑くなったり涼しくなったりと日々の気温差が激しいこの頃ですが、だんだんと
初夏の雰囲気が漂ってきていますね。花粉症からも開放され、活動的な気分で、
これから何をしようかと何だかワクワクしてくる今日、この頃です。
OSS関連ではオラクル社とグーグル社とのAPI訴訟が二転三転としていて、こちらも
今後の動きに注目したいですね。
さて、オープンソースライセンス研究所では、ライセンスの理解を深めるために、
「ライセンス深堀り勉強会」を開催しています。
勉強会では、ライセンスの日本語訳を音読し、意味の分からない部分をお互いに
質問したり、一覧表にまとめたりして理解を深めています。分かっていたつもり
だったのに、他の人の質問を聞いて、自分が理解できていなかったことに気付かされる
ことも多いです。
前回は、前々回からの継続であるArtistic License v2.0の読み合わせを行いました。
参考和訳が無いため、自動翻訳したものを見直しながら進んでいるため、ゆっくり目に
進んでいます。次回も引き続き、Artistic License v2.0の読み合わせを行い、ライセンス
のまとめを実施したいと思います。
これからライセンスについて勉強していきたいという初心者の方、あるいは
以前に勉強したけど、もう一度、復習したいという方、初めて参加される方も
大歓迎ですので、遠慮なくご参加ください。
■参加料:無料
■開催日時:2018年5月25日(金)16:00~18:00
■開催場所:東京都大田区新蒲田1-17-25 富士通ソリューションスクエア (R207会議室)
http://www.fujitsu.com/jp/about/corporate/facilities/solutionsquare/index.html
(広い階段を上がった2階が受付です)
※セキュリティの関係上、開始5分前までに受付に集合願います。
全員が集まった時点で、会議室へ移動します。
参加申し込み後、欠席される場合は、ご連絡いただけると幸いです。
■申し込み:以下のサイトからお願い致します。
https://www.osll.jp/news/study-20180525/
※配布資料の関係上、参加人数を把握するため、前日の5月24日(木)までに
お申し込みをお願い致します。